ガス、たとえば Hexamethyldisiloxane (HMDSO)ヘキサメチルジシロキサン , Hexamethyldisilazane (HMDSN)ヘキサメチルジシラザン, Tetraethylen glycol テトラエチレングリコール dimethyl etherジメチルエーテル, C2F6, …] 等がプラズマチャンバーに導入されると、プラズマによる重合作用で表面に膜が積層されます。
用途:
水をはじく膜の生成
親水性の膜の生成
用途例： 拡散防護膜
プラズマ処理前の基材
プラズマ処理
プラズマ処理後
